ZrO2 ज़िरकोनियम ऑक्साइड बॉल बियरिंग्स 6001-2TS 12mm

ZrO2 दौड़ और बॉल्स के सभी ZrO2 असर 6001-2TS + केज और सील

सभी ZrO2 असर 6001 . का विवरण(जिरकोनिया+टेफ्लॉन) :

1. ZrO2 दौड़ और गेंदें: अत्यधिक शुद्ध, उप-माइक्रोन द्वारा बनाए जाते हैं और Y2O3 आंशिक रूप से स्थिर ज़िरकोनिया पाउडर सामग्री के बाद, एपी (वायुमंडलीय दबाव) सिंटरिंग और एचआईपी (हॉट आइसोस्टैटिक प्रेशर) सिंटरिंग तकनीक द्वारा संसाधित होते हैं, इसलिए उनकी सरंध्रता, पहनने के प्रतिरोध, प्रभाव प्रतिरोध और थकान के प्रतिरोध संपर्क जीवन में बहुत सुधार हुआ है, जिसमें साधारण जिरकोनिया बेयरिंग अतुलनीय है।

2. टेफ्लॉन केज और सील्स: टेफ्लॉन को आमतौर पर "प्लास्टिक किंग" के रूप में जाना जाता है।यह बहुलक यौगिकों के टेट्राफ्लोरोएथिलीन पोलीमराइजेशन से बना है, उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता, संक्षारण प्रतिरोध (आज दुनिया में सबसे अच्छा संक्षारण प्रतिरोध सामग्री में से एक है, पिघला हुआ धातु सोडियम और तरल फ्लोरीन के अलावा, अन्य सभी रसायनों की क्षमता, उबलते हुए एक्वा एक्वा नहीं बदल सकता है, व्यापक रूप से सभी प्रकार के एसिड और क्षार प्रतिरोध और कार्बनिक विलायक में उपयोग किया जाता है), सीलिंग, उच्च स्नेहन, गैर-चिपचिपापन, विद्युत इन्सुलेशन और अच्छा एंटी-एजिंग धीरज, उत्कृष्ट तापमान प्रतिरोध (+ 250 ℃ में काम कर सकता है) -180 ℃ तापमान लंबे समय तक)।तो बीयरिंग में लगे इस सामग्री के पिंजरे और मुहरों का उपयोग कई विशेष काम करने की स्थिति में किया जा सकता है।

सभी ZrO2 असर 6001 . के प्रदर्शन लाभ(जिरकोनिया+टेफ्लॉन) :

उच्च परिशुद्धता और उत्कृष्ट प्रदर्शन की एक किस्म के साथ पूर्ण पीस के माध्यम से एक प्रकार का विशेष बीयरिंग, धातु स्टील शाफ्ट, उच्च कठोरता एचवी 1280, पहनने के प्रतिरोध, विभिन्न मजबूत एसिड के प्रतिरोध, मजबूत क्षार के करीब घनत्व और रैखिक विस्तार गुणांक है। नमक जंग (हाइड्रोफ्लोरिक एसिड को छोड़कर), गैर-चुंबकीय, गैर-प्रवाहकीय, उच्च तापमान प्रतिरोध, उच्च परिचालन गति, प्रभाव प्रतिरोध, छोटे शुरुआती टोक़, शुष्क घर्षण के प्रतिरोध, सबसे व्यापक रूप से उपयोग किए जाने वाले सिरेमिक बीयरिंगों में से एक है

सभी ZrO2 असर 6001 (ज़िरकोनिया + टेफ्लॉन) का अनुप्रयोग:

ज़िरकोनिया और टेफ्लॉन के उत्कृष्ट होने के कारण, ज़िरकोनिया बेयरिंग 6001 टेफ़लोन पिंजरे और सील के साथ इकट्ठे हुए हैंकुछ कंपन और हल्के प्रभाव वाले वातावरण के लिए उपयुक्त, जैसे कि रासायनिक, एंटीमैग्नेटिक, सेमीकंडक्टर, मध्यम / कम गति और संक्षारक कार्य वातावरण।